石斛大棚栽培技术概述

发布时间:2021-03-04   来源:石斛网    
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    石斛大棚栽培技术概述

    一、 光照: 原生环境一般都是在树阴下和背阴处。环境需要适度遮光,光照强度20000Lux左右。

    二、

    温度:在5℃以下停止生长,开始休眠。气温过低时,应注意冻害,最好保持在0℃以上。气温过高,35℃左右也会停止生长,最适宜的生长温度为25℃~30℃左右。

    三、

    基质:宜采用透气性好,滤水性好的基质作为材料。一般推荐用兰石+颗粒泥炭+树皮的混合材料。但由于大规模生产,成本相对较高,也可选用单一树皮作为基质。

    四、 湿度:配备湿度计,最好将湿度保持在60%以上,阴雨天气时,湿度在90%以上时应加强通风,防止细菌性、真菌性病害发生。

    五、 补水方式和水质:浇水应勤喷雾,少淋透。一般需等基质干时再淋透。水质应偏弱酸,有条件的话,水的PH值应在6.0左右的软水。

    六、 通风:“兰贵通风”

    。空气的流通对来说很重要,也能减少病害的发生.空气流通对基质内的根也是一样重要,所以我们推荐选用颗粒的材料,而且浇水一定要浇透,把新鲜的空气带入基质中。

    七、

    施肥方式:使用N:P:K为20:20:20及添加微量元素的复合肥料。薄肥勤施,切不可重肥使用,否则会造成肥害。每年春季发芽时,也可施用缓释肥料作为底肥。

    

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